بررسی تأثیر سرعت ورودی، مولار گاز ورودی و دمای سطح در لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 495

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

CHCONF01_189

تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1394

چکیده مقاله:

لایه نشانی شیمیایی بخار به کمک پلاسما یکی از پرکاربردترین روش های لایه نشانی است که معمولاً در دماهای کمتر از 250 درجه سانتیگراد صورت می گیرد. در این روش، بجای انرژی گرمایی از ذرات انرژی دار برای انجام واکنش، استفاده می شود تا لایه نشانی بتواند در دمای پایین و با سرعت قابل قبولی صورت گیرد. در این سیستم، توان الکتریکی با ولتاژ نسبتاً بالا و در فشار پایین برای یونیزه کردن گاز فراهم می شود که باعث شکستن مولکول های گاز به الکترون ها و یون ها می شود. در مقاله حاضر لایه نشانی فیلم نازک سیلیکن (Si) در راکتور PECVD شبیه سازی شده و فرآیند تشکیل Si بر روی زیرلایه مورد بحث و بررسی قرار گرفته است. ورودی رآکتور، گاز سیلان ((SiH(4)، به عنوان گاز اصلی واکنش دهنده می باشد که محیط پلاسما را ایجاد می کند. در این شبیه سازی محیط گازی، محیطی پیوسته، جریان گاز جریانی آرام و سرعت ورودی گاز برابر با 0/1 متر بر ثانیه فرض شده است. از اثرات تابش صرف نظر شده و گازها در محیط پلاسما ایده آل در نظر گرفته شده اند. در نتیجه این شبیه سازی که با استفاده از نرم افزار فلوئنت انجام شده است. نرخ لایه نشانی Si و همچنین پروفیل لایه نشانی محاسبه شده و اثر 3 پارامتر مختلف سرعت ورودی، مولار گاز و دمای سطح روی لایه نشانی مورد بحث و بررسی قرار گرفته است.

کلیدواژه ها:

لایه نشانی به کمک پلاسما (PECVD) ، شبیه سازی ، سیلیسیم ، گاز سیلان

نویسندگان

کامل میلانی شیروان

شرکت مجتمع گاز پارس جنوبی- دانشگاه فردوسی مشهد

مجتبی ماموریان

دانشگاه فردوسی مشهد

تیمور بهزادی

شرکت مجتمع گاز پارس جنوبی

بهنام پورجلالی

شرکت مجتمع گاز پارس جنوبی

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Armaou Antonios, C. and Panagiotis, D., (1999) "Plasma enhanced chemical ...
  • Economou, D. J., Park, S., & Williams, G. D., (1989) ...
  • Layeillon, L, Dollet, A., Couderc, J. P., & Despax, B., ...
  • Caquineau, H., & Despax, B., (1997) "Infuence of the reactor ...
  • CFD A:ه [5] Collins, David J, . Strojwas, Andrzej J, ...
  • Kim, y., Byung you, H., Jin-Hyo Boo, k., Youn J., ...
  • Da Silva, Ana Neilde, R., Morimoto, Nilton, I. :Gas Flow ...
  • Boo, Jin-Hyo, . L, Jong-Chul, (2007)، ،Characteristi _ of ...
  • Thermal-Flow Fields in a PECVD Reactor with Various Operating Conditions". ...
  • Conde, J. P., Chan, K. K., Blum, J., Arienzo, M., ...
  • Kushner, M. J., (1987) "On the balance between silylene and ...
  • Ding, J., Zhao, Yazhi, Y., Ningyi, sh., Mingming, W., Chen, ...
  • Hamby, E.S., Demos, A.T., kabamba, P.T., Khargonekar, p.p., (1995) ":A ...
  • نمایش کامل مراجع