کاربرد فیلم های نازک نانو ساختارTiO2 تهیه شده به روش غوطه وری توسط تکنیک شیمیایی سل-ژل در صنایع شیمیایی و اپتیکی

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,888

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

CHEMISTRYMED01_094

تاریخ نمایه سازی: 30 فروردین 1388

چکیده مقاله:

استفاده از روش های شیمیایی در ساخت فیلم های نانوساختار در ساخت تجهیزان نوری و صنایع اپتیکی کاربرد وسیعی پیدا کرده است. تکنیک سل-ژل بر پایه هیدرولیز یک ماده بعنوان پیش واکنشگر در یک حلال مایی استوار است. در این تحقیق پیش واکنشگر تیتانیوم تترا ایزوپروپکسید در اتانول بعنوان حلال، حل شده و در pH اسیدی فرآیند هیدرولیز رخ می دهد. پس از تهیه سل شفاف و پایدار، این محلول به روش لایه نشانی غوطه وری بر روی یک سوبسترا ترسیب می شود. تعیین پارامترهای عملیاتی نظیر کنترل نسبت پیش واکنشگر به حلال، نوع حلال، pH ، مناسب، دما و سایر پارامترهای عملیاتی در تهیه محلول سل و همچنین عواملی نظیر سرعت کشش سوبسترا، نحوه عملیات حرارتی و دمای آنیلی شدن روی ساختار متخلخل نانوساختار فیلم نهایی تاثیر بسطایی دارد. این مقاله به بررسی پارامترهای عملیاتی فوق می پردازد.

کلیدواژه ها:

فیلم های نانو ساختار ، تکنیک سل-ژل ، لایه نشانی غوطه وری ، اپتیک

نویسندگان

علیرضا بهرامیان

دانشکده مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران

منصور کلباسی

دانشکده مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران

فریبرز رشیدی

دانشکده مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران

فرشته حاج اسماعیل بیگی

پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • A. Aidla, T. Uustare, A.-A. Kiisler, J. Aarik, V. Sammelselg, ...
  • P. Ch rysicopoulou, D. Davazoglou, Chr. Trapalis, G. Kordas, Thin ...
  • S. Mahshid, M. Sasani Ghamsari, .... ...
  • T. Sugimoto, K. Okada, H. Itoh, J. Colloid Interface Sci. ...
  • T. Sugimoto, K. Okada, H. Itoh, J. Dispers. Sci. Technol. ...
  • Y. Hu, H.-L. Tasi, C.-L. Huang, Mater. Sci. Eng. 344 ...
  • X.-Z. Ding, X.-H. Liu, J. Alloys Compd. 248 (1997) 143. ...
  • H. Zhang, J.F. Banfield, J. Mater. Chem. 8 (1998) 2073. ...
  • L. Hu, T. Yoko, H. Kozuka, Thin Solid Films, 219 ...
  • Z. Wang, U. Helmersson, P.O. Kall, Thin Solid Films, 405 ...
  • P. Alexandrov, J. Koprinarova, D. Todorov, Vacuum 47 (1996)1333. 02. ...
  • ; : _ _ Reading, MA, 1978, p. 16) ...
  • E.J. Kim, S.H. Hahn, Mater. Lett. 49 (2001) 244. 17) ...
  • T. Hashimoto, T. Yoko, S. Sakka, Bull. Chem. Soc. Jpn. ...
  • نمایش کامل مراجع