بررسی تاثیر تغییرات ولتاژ بر روی قطر حفرات تمپلیت های AAO در رسوبدهی الکتروشیمیایی نانوسیم های کبالت

مهمترین نانوساختارهای تک بعدی، نانوسیم ها محسوب میشوند. نانوسیمها با نسبت طول به قطر بالا، خواص حرارتی، مکانیکی، نوری، الکتریکی و مغناطیسی بینظیری از خود نشان میدهند. مزیت اصلی نانوسیمها نسبت طول به قطر بزرگ، انعطاف پذیری و ساختار فوق العاده آنها است که اجازه استفاده را در شکلهای متعدد مطابق با نیازهای طراحی شده میدهد. رسوبدهی الکتروشیمیایی با استفاده از جریان متناوب یکی از روشهای مهم جهت ایجاد نانوسیمها در داخل تمپلیت اکسید آندی آلومینیوم (AAO) بوده که به دلیل حضور لایه مانع در انتهای حفرات است. در این مطالعه تاثیر ولتاژ های 20، 40 و 160 به ترتیب در الکترولیتهای اسید سولفوریک، اسید اگزالیک و اسید فسفریک بر روی تغییرات قطر تمپلیتهای اکسید آلومینیوم مورد بررسی قرار گرفته است. طی نتایج حاصل شده با قرار گرفتن آلومینیوم به عنوان آند در داخل الکترولیت مناسب، با افزایش ولتاژ و به طبع آن افزایش دانسیته جریان فاصله بین ترکهای ایجاد شده بر روی لایه اکسیدی بیشتر شده و در نتیجه گذشت زمان و انجام مراحل رشد، افزایش قطر حفره ها از 24 نانومتر در اسید سولفوریک به 34 میکرومتر در اسید فسفریک مشاهده میگردد. بنابراین قطر حفره ها با افزایش ولتاژ آندایزینگ بزرگتر میشود.

کلیدواژه ها:

تمپلیت اکسید آلومینیوم منظم ، نانوسیم ، کبالت ، رسوبدهی الکتروشیمیایی متناوب ، ولتاژ