لایه نشانی و بررسی اکسید قلع نانوساختار در حضور سورفکتانت تترا اتیل آمونیوم هیدروکسید به روش سل-ژل

اکسید قلع با استفاده از روش سل -ژل در حض ور و عدم حضور سورفکتانت تترا اتیل آمونیوم هیدروکسید روی شیشه سودالایم لایه نشانی گردید . سل آماده شده برای لایه نشانی کلر زدایی نیز گردید . لایه های آماده شده با استفاده از تکنیک های پراش اشعه X پروب چهار نقطه ای (برای سنجش مقاومت ورقه ای)، میکروسکوپ نوری میکروسکوپ الکترونی عبوری، الگوی پراش الکترونی و همچنین عبور سنجی در محدوده نور مرئی و ماوراء بنفش بررسی گردیدند . نتایج نشان داد که هر دو فازSnO و SnO2در نمونه ها وجود دارند. همچنین مشاهده شد که با افزودن سورفکتانت، تعداد ترک ها افزایش می یابد ولی ضخامت و گپ در تر کها کاهش مییابد و بنوعی پیوستگی در ترکها ایجاد می شود که باعث افزایش هدایت الکتریکی می شود. تصاویر میکروسکوپ الکترونی عبوری نیز حاکی از تشکیل لایه اکسید قلع با تخلخل بالا می باشد که برای کاربردهای حسگری بسیار مناسب می باشد . مقاومتورقه ای لایه های آماده شده حدود103Ω/m تخمین زده شد اندازه بلور کها، ضخامت لایه بعد از 3 بار لایه نشانی وگاف انرژی برای نمونههای آماده شده بترتیب حدود 20,650nm ,3/56eV محاسبه گردید.

کلیدواژه ها:

اکسید قلع ، سورفکتانت کاتیونی ، لایه نازک ، الکترود شفاف