طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر
محل انتشار: نوزدهمین کنفرانس مهندسی برق ایران
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,389
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEE19_222
تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391
چکیده مقاله:
یک سامانه لیتوگرافی لیزری برای تولید ماسک با دقت 1 میکرون طراحی و ساخته شده است درساخت سکوی X-Y ازحسگر جابجایی تداخل سنج مایکلسون با دقت 158/2nm بعنوان فیدبک جابجایی استفاده شده است درسیستم خودکانون از روش مبتنی برروش آستیگماتیسم استفاده شده است حساسیت سیستم خودکانون ساخته شده حدود20 mV/μm می باشد سرعت لیتوگرافی سامانه حدود 1/47mm/min و حداکثر ابعاد لیتوگرافی 2×2cm2 است سکوی سامانه قادر است تاجابجایی های ناخواسته ناشی از ضربه و نوسانات محیطی را بخوبی جبران واصلاح نماید پهنای خط متوسط سامانه 1mm با غیریکنواختی کمتر از 14% است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
هومن نورائی
مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :