Investigation of the Geometrical Effects on Nanoscale Filed Effect Diodes

سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 1,182

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEE20_208

تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391

چکیده مقاله:

In this paper, the previously proposed Modified Field Effect Diode (M-FED) has been more accurately studied and its current-voltage characteristics have been extracted numericallyby MINIMOS-NT device simulator. Simulations using this program provided the opportunity to study the effect of differentdevice parameters on the overall device performance. Our numerical results show the geometrical effects on the M-FED performance. Several parameters have to be scaled down suchas gate oxide thickness, channel length, the body thickness and the spacer length between two gates to achieve desirableelectrical characteristic. We demonstrate that a well-tempered device with a high switching response and lower energyconsumption can be achieved with a 30nm body thickness, 2nm gate oxide thickness, and 5nm spacer length

کلیدواژه ها:

Modified field effect diode ، Optimization ، Gate delay time ، Energy-delay product

نویسندگان

Negin Manavizadeh

Electrical Engineering Department, K. N. Toosi University of Technology

Farshid Raissi

Electrical Engineering Department, K. N. Toosi University of Technology,

Ebrahim Asl Soleimani

Electrical and Computer Engineering Department, University of Tehran