بهبود کیفیت و خواص لایه های کربن شبکه الماس DLC مورد استفاده در ساخت ترانزیستور و دیود

سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,756

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEEE03_244

تاریخ نمایه سازی: 18 مهر 1390

چکیده مقاله:

دراین مقاله با توجه به کاربرد لایه های شبه الماسی DLC در صنعت و بخصوص در الکترونیک و ساخت دیودها و ترانزیستورها خواص این لایه ها مورد توجه و بررسی قرارگرفته است بدین منظور در آزمایش انجام یافته رسوب نشانی لایه های کربن شبه الماس در دو حالت متفاوت از لحاظ کیفیت و سرعت رسوب نشانی مورد بررسی و مقایسه قرارگرفته است در روند آزمایش از یک میدان مغناطیسی عمود بر میدان الکتریکی در یک سیستم رسوب نشانی بخار شیمیایی با پلاسمای افزایشی MPECVD( که به منبع رادیوفرکانسی RF متصل شده است استفاده می شود نکته قابل توجه این است که بیشتر ترازهای یونیزاسیونی که در سیستم حاصل می شوند در ولتاژ های بسیار پایین شبکه خودکار و سرعت رسوب نشانی بالا رخ میدهند.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

سعید اصغرشرقی بنا

مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران

حمید پاشایی عدل

دانشکده فیزیک دانشگاه تبریز

سعید آخسمه

مرکز فنی مهندسی نیروگاه تبریز

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • M.A. Lieberman, A.J. Lichtenberg, Principles of plasma discharges and materials ...
  • W. Dworschak, , K. Jung, H. Ehrhardt, Diamond Rel Mater. ...
  • S.R.P. Silva, K.J. Clay, S.P. Speakman, G.A.J. Amaratunga, Diamond, Rel. ...
  • J.L Vossen, in: W. Kern (Ed.), Thin Film Processes II ...
  • W. Zhang, Y. Catherine, Surf. Coat. Technol. 47, (1991) ...
  • M.A. Tamor, W.C. Vasell, K.R. Karduner, Appl. Phys. Lett. 58, ...
  • نمایش کامل مراجع