طراحی سیستم انتقال تصویرشش آینه ای لیتوگرافی EUV برای ابعاد نانومتری
محل انتشار: دوازدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
سال انتشار: 1384
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,342
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP12_006
تاریخ نمایه سازی: 19 اسفند 1386
چکیده مقاله:
لیتوگرافی EUV روشی برای رسیدن به توان جداسازی بسیار بالا است . به علت نبودن ماده شفاف درناحیه EUV در بخش ازسیستم بازتابی استفاده می شود . کنترل ابیراهی ها وبهینه سازی درسیستم انتقال تصویر اهمیت زیادی دارد . دراین سیستم انتقال تصویر شش آینه ای با استفاده ازنرم افزارطراحی اپتیکی OSLO طراحی شده است که نتایج آن بر اساس ارزیابی تصویر بسیار خوب است . در این طراحی . برای بهینه سازی هرچه بیشتر از سطوح غیرکروی استفاده شده است .
کلیدواژه ها:
نویسندگان
حمیدرضا فلاح
دانشگاه اصفهان
آیت الله کریمزاده
دانشگاه اصفهان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :