طراحی و ساخت پوشش بازتاب بالای چند لایه ای Al2O3/Si به روش لایه نشانی باریکه الکترونی با یون کمکی
سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,055
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP17_171
تاریخ نمایه سازی: 19 آبان 1389
چکیده مقاله:
پوشش بازتاب بالا HR با لایه نشانی چهار جفت از لایه های Si,Al2O3 به ترتیب به عنوان لایه های با ضریب شکست پایین و بالا برروی زیرلایه شیشه ای بوسیله دستگاه لایه نشانی باریکه الکترونی با یون کمکی ایجاد شد نتایج اسپکتروفوتومتری نشان میدهد که استک چهارجفت لایه ای S/(LH)4/Air دارای باند توقف پهن و تقریبا یکنواختی با بازتاب بیش از 96% در ناحیه 994-808nm است انالیز SPM نشان دهنده پستی و بلندی سطحی از مرتبه 16.3nm است تصویر میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM یکنواختی ضخامت در دمای 120 درجه را اشکار می کند این پوشش خواص اپتیکی مناسبی برای اینه های عقب لیزرهای نیمه رسانا دارد.
کلیدواژه ها:
پوشش چند لایه بازتاب بالا HR ، لایه نشانی باریکه الکترونی با یون کمکی ، اسپکتروفوتومتری ، ضخامت اپتیکی ربع - موج
نویسندگان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :