بهینه سازی پارامترهای موثر در فرآیند پوشش دهی نانو اکسید سریم بر روی آلیاژ AA7020-T6 به روش سل-ژل با استفاده از روش آماری تاگوچی

در این مقاله به بررسی بهینه سازی پارامترهای موثر در فرآیند پوشش دهی نانو اکسید سریم به روش سل-ژل پرداخته می شود. برای این کار از روشی آماری به نام روش آنالیز تاگوچی استفاده شد. سعی بر آن بوده است تا از انتخاب عوامل مشابه پرهیز شود. فاکتور اندازه‌گیری شده شامل مقاومت به خوردگی پوشش نانو اکسید سریم می‌باشد. ترتیب تاثیر این عوامل و مقایسه نموداری آنها بحث شده است. عوامل موثر مختلف در این تحقیق که بر روی کیفیت و در نتیجه آن در مقاومت به خوردگی پوشش های نانو اکسید سریم موثرند شامل: نسبت مولی اسید سیتریک به کلرید سریم در سل، زمان غوطه وری در آب جوش در فرآیند آماده سازی سطح، دمای عملیات حرارتی و غلظت سریم در سل می باشند. برای بررسی میکروساختار پوشش از میکروسکوپ الکترونی SEM، آنالیز XRD و برای بررسی رفتار خوردگی از نمودارهای پلاریزاسیون دینامیکی استفاده شد. بر طبق نتایج حاصل بیشترین مقاومت به خوردگی پوشش هنگامی بدست می آید که نسبت مولی اسید سیتریک به سریم برابر 2، زمان آماده سازی برابر1 ساعت، غلظت سریم برابر 0.02 مول و دمای عملیات حرارتی برابر 300 درجه سانتیگراد باشد.

کلیدواژه ها:

نانو اکسید سریم ، آنالیز تاگوچی ، مقاومت بخوردگی ، AA7020-T6 ، SEM ، XRD