مقايسه الگوپذيري دو پليمر Photoresist و SU-8 طي فرايند نانوليتوگرافي توسطAFM

[ محمد عبدالاحد ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف
[ اميد اخوان ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف
[ سودابه واثقي نيا ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف
[ عليرضا مشفق ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف، پژوهشكده علوم و فناوري نانو،دانشگاه صنعتي شريف

خلاصه مقاله:

در اين تحقيق، با استفاده از ميكروسكوپ نيزوي اتمي (AFM) عمل ليتوگرافي در ابعاد نانومتري بر روي پليمرهاي Photoresist و SU-8 به عنوان ماسك توسط روش لايه نشاني چرخشي تهيه گرديد . سپس الگوپذيري بر سطح اين دو پليمر از نظر تغيير شكل پلاستيكي Si انجام شد . ماسك هاي مزبور بر سطح زير لايه در حين فرايند ليتوگرافي برروي دو پليمر، تحقيق گشته AFM با استفاده از تحليل ارتفاع خطوط ايجاد شده بررسي شد . به علاوه اثر افزايش سرعت روبش سوزن است