خواص نوری، ساختاری و مورفولوژی نانو ساختار لایه نازک ZnO در ساختار چند لایه ای ZnO/Al2O3/SiO2 لایه نشانی شده توسط روش کندوپاش RF

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,717

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC88_115

تاریخ نمایه سازی: 28 دی 1388

چکیده مقاله:

لایه های نازک اکسید روی (ZnO) بر روی زیر لایه های PET که از پیش با ساختار چند لایه ای Al2O3/SiO2 پوشانده شده ، توسط روش کندو پاش RF در حضور پلاسمای آرگون ، در توانهای RF مختلف ، لایه نشانی گردیده و ساختار کریستالی، مورفولوژی سطح، عبور نوری لایه ها در ناحیه مرئی به ترتیب توسط آنالیزهای: SEM , XRD و طیف سنجی UV/VIS/IR بررسی شده است. نتایج نشان می دهد که رشد لایه ها در جهت کریستالی ( 002 ) بوده و متوسط عبور نوری لایه ها بالای 85 % است . با افزایش توان عبور نوری لایه های اکسید روی در ناحیه مرئی و شدت کریستالی لایه ها افزایش می یابد. انرژی نوار ممنوعه نوری بین (ev)3/39-3/31 در توانهای مختلف RF تغییر می کند.

نویسندگان

ابراهیم اصل سلیمانی

آزمایشگاه نانو الکترونیک ولایه های نازک دانشکده مهندسی برق و کامپیو

شمس الدین مهاجر زاده

آزمایشگاه نانو الکترونیک ولایه های نازک دانشکده مهندسی برق و کامپیو