پایداری حرارتی ساختار لایه های نازک نقره انباشت شده روی Si در حین بازپخت در دماهای بالا
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1388
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 930
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC88_337
تاریخ نمایه سازی: 28 دی 1388
چکیده مقاله:
در این تحقیق لایه های نازک نقره با ضخامت 250nm با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی روی زیر لایه هائی از جنس سیلیکون انباشت شدند. لایه های رشد یافته، درجا تا دمای 400درجه سانتیگراد در محیط خلاء باز پخت شدند. الگوی پراش اشعهx این لایه ها در دمای اطاق و نیز در دماهای بالا در محیط خلاء، بررسی شدند. اندازه بلورک های نانوذرات نفره در دماهای مختلف محاسبه شدند. تغییر دمای تدریجی در خلاء تا دمای 925درجه سانتیگراد نشان میدهد که لایه نازک نقره دارای ساختار پایداری بوده ونیز جنانجه پس از لایه نشانی به صورت گرم ، درجا بازپخت صورت گیرد، ساختار لایه نشانده شده و اندازه بلورک های آن از کیفیت بهتری برخوردار خواهد بود.
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :