کاهش اثر خودگرمایی و مقاومت دیفرانسیل منفی در افزاره ی SOI-LDMOS

سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 902

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISCEE15_174

تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1391

چکیده مقاله:

در این مقاله ابتدا به بررسی شبیه سازی عددی افزاره یSOI-LDMOS می پردازیم. . طول بهینه ی پنجره سیلیسیمی را بدست آورده وسپس با استفاده از تکنیک ایجاد پنجره سیلیسیمی در اکسید مدفون، نشان خواهیم داد که اثر خودگرمایی به میزان 12/34 درصد کاهش می یابد و نشان می دهیم و این مزیت روش پیشنهادی این است که جریان نشتی و فرکانس قطع افزاره تغییر چندانی نمی یابد. همچنین در ادامهبه تاثیر استفاده ازSi3N4به جایSio2در لایه مدفون بر روی اثر خودگرمایی خواهیم پرداخت.

کلیدواژه ها:

افزاره ی SOI-LDMOS افزارهSOI-LDMOSبا پنجره ی سیلیسیمی ، خودگرمایی ، فرکانس قطع ، مقاومت دیفرانسیل منفی

نویسندگان

رسول بخشی

دانشگاه تهران، تهران، ایران

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • v. Fathipour, S. Fathipour, M. Fathipour , M.A. Malakootian, "Device ...
  • _ _ _ _ world scientific publishing co., 2005. ...
  • H.T. Lim, F. Udrea, D.M. Garmer, W.I. Milne, "Modelling of ...
  • Gao Shan, Chen Junning, Ke Daoming, Fang Miao, "Analysis of ...
  • Xiaorong Luo, Yuangang Wang, Hao Deng, Jie Fan, Tianfei Lei, ...
  • Sharbati Samaneh, Orouji Ali Asghar, Fathipour Morteza, _ Novel Partit ...
  • Xiaorong Luo, Yuangang Wang, Guoliang Yao, Lianfei Lei, Bo ...
  • Layer, Electron Device Letters, IEEE, Volume 31, Issue 6, pages ...
  • نمایش کامل مراجع