روشی نوین در میکرو - نانو ماشین کاری فتوشیمیایی بدون استفاده از شابلون

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,350

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISME17_662

تاریخ نمایه سازی: 20 فروردین 1389

چکیده مقاله:

برای ساختن ترانزیستورها و مدارهای مجتمع (IC) و قطعاتی در ابعاد میکرو و نانو از تکنولوژی ماشین کاری شیمیایی دقیق استفاده می شود. در روش ماشین کاری شیمیایی از شابلون و در روش فتوشیمایی از فیلم نگاتیو برای تصویر کردن تصویر طرح برروی سطح قطعه استفاده می شود.

نویسندگان

علیرضا فدایی تهرانی

استادیار دانشکده مکانیک دانشگاه صنعتی اصفهان

نیما نوری

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مکانیک

محمدرضا یاریان

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مکانیک

محمدجواد زرکوب

استادیار دانشکده مکانیک

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • D.S Hwang , T.Saito , N Fujimori " New Etching ...
  • K.C.C _ TSE , D.Nikezic , K.N.Pu "Comprative Studies Of ...
  • Mark K.Long "Compute Aided Layout Synthesis For Aniotropic Etch Pho ...
  • Chemical Etching ه 4. H.R.Robbins And B.Schwartz Of Silicon I, ...
  • H.R.Robbins and B.schwartz _ Chemical Etching Of Silicon II, The ...
  • H.R.Robbins and B.schwartz _ Chemical Etching Of Silicon II, The ...
  • D.M Allen "The Principle And Practice Of Photochemicl Machinig And ...
  • Advance Machining Processes by Hassan Abdel, Gawad EI-Hoy. Alexandria University ...
  • Chemical Milling , by: W.T.Harris. Oxford university press _ 1976 ...
  • نمایش کامل مراجع