بررسی خواص مقاومت ویژه سطحی لایه نازک سیلیکان
محل انتشار: دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,734
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_043
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
چکیده مقاله:
لایه نشانی ویفر سیلیکون به روش لایه نشانی با زاویه فرودی مایل تحت زوایای 75و 85 درجه انجام شد اندازه گیری مقاومت سطحی لایه، به روش ون در پاو انجام و نتایج آن با مقاومت زیرلایه که به همین روش اندازه گیری شده است، مقایسه شد نتایج به دست آمده نشان می دهد، مساحت سطحی و در نتیجه مقاومت سطحی نمونه ی °75 به مراتب بزرگتر از °85 و همچنین مساحت سطحی °85 به مراتب بزرگتر از ویفر می باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
نرگس صادق بیگی
گروه فیزیک ، دانشگاه الزهرا (س)
رضا ثابت داریانی
گروه فیزیک ، دانشگاه الزهرا (س)
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :