بررسی اثر دمای بازپخت بر نانوساختار و خواص الکتریکی وتزئینی لایه های نازک اکسید زیرکونیوم تهیه شده به روش کندوپاش

سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 689

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE14_085

تاریخ نمایه سازی: 9 بهمن 1392

چکیده مقاله:

لایه های نازک زیرکونیوم با استفاده از تکنیک کندوپاش مغناطیسی DC بر روی زیر لایه شیشه انباشته شدند.سپس لایه ها در دماهای مختلف C 500-100 در شار ثابت اکسیژن بازپخت شدند. نتایج پراش پرتو X- XRD نشان داد که فازهای مختلف اکسید زیرکونیوم در دماهای بازپخت متفاوت C 500-100 بدست می آید. این نتایج نشان داد که افزایش دمای بازپخت باعث افزایش اندازه بلورک ها(دانه) نانوکشش در ساختار لایه ها می شود. تصاویر میکروسکپ نیروی اتمی AFM برای تمام لایه ها ساختار دانه ای شکل را نشان داد، درحالیکه اندازه دانه ها و زمختی سطح با افزایش دمای بازپخت افزایش یافتند.بررسی EDAX نیز نشان داد که نسبت o/zr در دماهای C 500 ،400،300،200،100 به ترتیب 2.4 و 2.3 ،1.9،1.7 ،1.6 بود. لایه های بود. لایه های بالا c 500 و 400 شفاف و در دماهای پائین c 300 - 100 خاکستری و قهوه ای بودند. خواص الکتریکی بدست آمده با دستگاه دو پروب نشان داد که تغییرات مقاومت الکتریکی با ولتاژ اعمال شده تقریبأ ثابت است و مقاومت الکتریکی با افزایش دمای بازپخت افزایش می یابد.

نویسندگان

فاطمه جعفری

تهران، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، دانشکده علوم، گروه فیزیک (دانشجوی کارشناس ارشد فیزیک)

کیخسرو خجیر

چالوس، دانشگاه آزاد اسلامی واحد چالوس، گروه فیزیک (استادیار)

ناصر زارع دهنوی

تهران، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، دانشکده علوم، گروه فیزیک (استادیار)

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Askeland DR, Phule PP. The Science and Engimeering of Materials, ...
  • Gan Z, Yu GQ, Zhao ZW, Tan CM, Tay BK. ...
  • Martin PJ, Bendavid A. Properties of zirconium oxide films premred ...
  • Sui JH, Cai W, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B. ...
  • Zho ZW, Tay BK, Y u GQ, Lau SP. Optical ...
  • Yu GQ, Tay BK, Zhao ZW. Structure and roperties of ...
  • Liu X, Huang A, Ding C, Chu PK, Enhanced bioactivity ...
  • Huang AP _ Fu RKY , Chu PK, W ang ...
  • Xu KW, Zhao S, Ma F, Song ZX. T hickess- ...
  • Lai LJ, Lu HC, Chen HK, Ceng BM, L in ...
  • Cyviene E, Laurikaitis M, Dudonis J. Deposition of nancompocsite Zr-ZrO2 ...
  • Korkmaz S, Pat S, Ekem N, Zafer Baltag M, Temel ...
  • Cueto LF, Sanchez E, T rres-Martiner LM, Hirata GA. On ...
  • Lee BJ, Sohn HL, Cho YT. The effect of the ...
  • Shen YM, Shao SY, Yu H, Fan ZX, He HB, ...
  • Huang AP, Chu PK. Microstructurl improvemert of sputtered ZrO2 thin ...
  • Huy LD, Laffez P, Daniel P, Jouanneaux A, Khoi NT, ...
  • Ciosek J, Paszkowicz W, P ankowski P, Firak J, Stanislawek ...
  • Kuei PY, Chou JD, Huang CT, Ko HH, Su SC. ...
  • Venkataraj S, Kappertz O, Liesch Ch, Detemple R, Jayavel R, ...
  • Chua DHC, Milne WI, Zhao ZW, Tay BK, _ SP, ...
  • Martin P J, Netterfield RP, Saity WG. Modification of the ...
  • Martin PJ, Netterfiend RP, K inder TJ. Ion-beam- eposited films ...
  • Pawkewicz WT, Has DD. Microstuctue contol for sputter-depos ited _ ...
  • Haung AP, Di ZF, Fu RKY, Chu PK. Improvement of ...
  • Chung FH, Smith DK. Industrial applications of X-ray diffraction. Marcel ...
  • Shi Z, Player MA, Prefered orcentation df ewaporated Ni films ...
  • Warren BE. X-ray Diffaction. Addison Wesey P ublishing Co. London:1969. ...
  • Khojier K, Savaloni H, Kangarloo H, Ghorannevis M, Yari M. ...
  • Koski V, HOsa J, Juliet P .Properties of zirconium oxide ...
  • نمایش کامل مراجع