اثر لیزر کم توان بر رشد استافیلوکوکوس اورئوس در حضور و عدم حضور کافئیک اسید

استافیلوکوکوس اورئوس از عوامل مهم ایجاد عفونت در تمام جوامع بهداشتی درمانی است. استفاده بی رویه ازآنتی بیوتیکها در چند دهه اخیر منجر به پیدایش سویههای مقاوم این باکتری شدهاست. هدف از این مطالعه، تعیین اثرات لیزربر روی استافیلوکوکوس اورئوس در عفونتهای سوختگی انسان و مقایسه اثرات مهار کننده آن بر روی این باکتری در حضور و عدم حضور کافئیک اسید بود.مواد و روشها: در این مطالعه تجربی از نمونه زخم سوختگی ناشی از مواد آتش زا در مرکز درمانی شهید مطهری تهران 10سویه استافیلوکوکوس اورئوس جدا شد. سویه ها با روشهای تشخیص مورفولوژی میکروسکوپی، بیوشیمیایی تعیین هویت شدند. حداقل غلظت مهارکنندهMIC کافئیک اسید بر روی سویههای مذکور به روش رقت سازیMacrodilution تعیین شد. هر کدام از سویهها به طور جداگانه تحت تاثیر کافئیک اسید و لیزر هلیوم نئون با طول موج 630 نانومتر و توان 2میلی وات به مدت 1و2و3 دقیقه قرار گرفتند. در گروه دیگر نیز سویهها بهطور توأم با کافئیک اسید و لیزر تیمار شدند. سپس سویهها بر روی محیط های کشتBlood Agarکشت داده شد و در گرمخانه 37 درجه به مدت 24 ساعت قرارداده شدند. تعداد کلنی هابا دستگاه شمارش کلنیcolony counter) شمرده شدند. در هر کدام از شرایط ذکر شده آزمایشات سه بار تکرار ش دند برای کنترل کیفی از سویه استاندارد استافیلوکوکوس اورئوس ATCC25923استفاده شد. داده ها به کمک نرم افزار SPSS وآزمونهایT.test ، Friedman.Testو غیر پارامتریک تجزیه و تحلیل شد. کاهش رشد استافیلوکوکوس اورئوس با کافئیک اسید یا لیزر مشاهده گردید. استفاده توام از لیزر کم توان هلیومنئون به همراه کافئیک اسید اثر همافزایی و مؤثرتر در کاهش تعداد باکتری در محیط آزمایشگاه نشان داد

کلیدواژه ها:

لیزر کم توان ، کافئیک اسید ، استافیلوکوکوس اورئوس ، حد اقل غلظت مهار کننده