مروری برروشهای تهیه لایه های نازک دی اکسیدتیتانیم برای استفاده درسل های خورشیدی حساس شده به موادرنگزا
محل انتشار: فصلنامه مطالعات در دنیای رنگ، دوره: 5، شماره: 3
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 471
فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_JSCW-5-3_001
تاریخ نمایه سازی: 2 دی 1395
چکیده مقاله:
دردودهه گذشته نسل سوم سل های خورشیدی یعنی سل های خورشیدی حساس به موادرنگزا یاسلهای گراتزل نسبت به سل های سیلیکونی به دلیل قیمت پایین تولید و بازده نسبتا بالای تبدیل نور به جریان الکتریسیته بسیار موردتوجه قرارگرفته ان د یکی ازبخشهای مهم سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا لایه دی اکسیدتیتانیم پوشش داده شده برروی FTO می باشد که نقش دریافت کننده الکترون تهیج یافته ماده رنگزا و انتقال آن به سطح FTO است بنابراین تهیه و اعمال این لایه نقش بسیارمهمی درعملکرد سل های خورشیدی حساس به مواد رنگزا دارد روشهای تهیه و اعمال این لایه به دوطبقه کلی روش فیزیکی و روش شیمیای تقسیم میشود روشهای فیزیکی شامل پالس لیزری و اسپاترینگ بوده و روش شیمیایی شامل بخارشیمیایی سل - ژل پوشانش غرقه ای پوشانش چرخشی لایه نشانی افشانش گرمایی و الکرتوپوشانش است روشهای شیمیایی به دلیل سهولت انجام عدم نیاز به تجهیزات و شرایط ازمایشگاهی پیچیده نسبت به روشهای فیزیکی بیشتر موردتوجه هستند درمیان روشهای شیمیایی فرایند سل - ژل به دلیل امکان کنترل ویژگی ها و ضخامت لایه تهیه شده باسهولت و دقت بالا برتری بیشتری دارد و بیش ازسایر روشها درحال رشد و مطالعه است هدف این مقاله معرفی روشهای مختلف درتهیه لایه های نازک دی اکسید تیتانیم برای استفاده درسلهای خورشید حساس به مواد رنگزا می باشد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مژگان حسین نژاد
استادیار گروه پژوهشی مواد رنگزای الی موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش تهران ایران
سیامک مرادیان
استاددانشکده مهندسی پلیمر و رنگ دانشگاه صنعتی امیرکبیرتهران ایران قطب علمی رنگ موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش تهران ایران
کمال الدین قرنجیگ
دانشیار گروه پژوهشی مواد رنگزای الی موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش تهران ایران قطب علمی رنگ موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش تهران ایران