مطالعه خواص ساختاری دوپ نیتروژن در تیتانیوم به روش رسوب بخار شیمیایی با فیلامان داغ (HFCVD)

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 773

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NANOG01_019

تاریخ نمایه سازی: 12 دی 1393

چکیده مقاله:

در این تحقیق لایه های نازک تیتانیوم اکسی نیترید به روش رسوب بخار شیمیایی با فیلامان داغ (HFCVD) روی زیر لایه سیلیکون (400) p لایه گذاری شدند.نمونه ها در شرایط دمایی مختلف (T=400°c,T=500°c,T=700°c,T=800°c) قرار داده شدند. از آنالیز Four Point Probe، XRD و SDE برای تعیین ساختار بلوری، خواص الکتریکی و میزان دوپ عنصر نیتروژن واکسیژن استفاده شد.آنالیز XRD نشان دهنده فاز مکعبی با جهت ترجیحی (200) و (220) ومونو کلینیک با جهت (112-) با افزایش دمای زیر لایه می باشد. با افزایش دما مقاومت الکتریکی لایه های تیتانیوم اکسی نیترید با استفاده از آنالیز Four Point Probe از Ω/□ 25/32 به Ω/□ 0/0126 و بر طبق آنالیز SDE میزان دوپ عنصر نیتروژن از 5/8% به 3/42% و اکسیژن از 64/06 به 59/3 کاهش یافت.

نویسندگان

منا احکان

کارشناسی ارشد،فیزیک،دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز

محمود قرآن نویس

استاد،فیزیک،مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Guanghua Liu, Kexin Chen, Heping Zhou, Jiajin Tian, C. Pereira, ...
  • Sadanand V. D e shp ande, Jeffrey L. Dupuiet and ...
  • P. Scherrer, Gott. Nachr. 2, 98 (1918). ...
  • Nishat Arshi , Junqing Lu , Yun Kon Jo , ...
  • Nishat Arshi, Junqing Lu, Yun Kon Joo, Chan Gyu Lee, ...
  • N. Saoula, S. Djerourou, K. Yahiaoui, K. Henda, R. Kesri, ...
  • نمایش کامل مراجع