|
ليتوگرافي پروبي روبشي شيميايي مكانيكي (MC-SPL) در ابعاد نانومتري بر روي لايه ماسك فوتورزيست Fulltext
نويسندهگان:
[ محمد عبدالاحد ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف [ اميد اخوان ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف [ عليرضا مشفق ] - دانشكده فيزيك دانشگاه صنعتي شريف
خلاصه مقاله:
در اين تحقيق ابتدا نانو ليتگرافي برروي لايه ماسك فوتورزيست كه روي بستر LiTaO3 لايه نشاني شده با ايجاد حفره هايي با پارامترهاي مختلف بررسي مينماييم . سپس روش ليتوگرافي پروبي روبشي مكانيكي شيميايي (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسي AFM الگوهاي پيچيده تري بوسيله ليتوگرافي نيروي مستقيم Al/SiO2/Si ميشود كه در آن بر روي لايه ماسك لايه نشاني شده بر روي چند لايه ايجاد ميشود . سپس ويفر را بوسيله محلول اسيد فسفريك اچ ميگردد و نانو ساختارهاي آلومنيوم ايجاد ميگردد . اين تشكيل نانو ساختارها گام مهمي به
سمت ياخت قطعات نانومتري است .
كلمات كليدي:
[ لينک دايمي به اين صفحه: http://www.civilica.com/Paper-NANOSC02-NANOSC02_267.html ]
|