بررسی مکانیزم رسوبدهی الکتروشیمیایی نانو ایر طلا در تمپلیت پلی کربنات

در این تحقیق فرآیند رسوبدهی الکتروشیمیایی نانو وایرهای طلا در تمپلت پلی کربناتی با حفرات 80 نانومتری در حمام آبی حاوی دی سیانورات پتاسیم مطالعه شده است. از منحنی های ولتامتری سیکلی، کرونوآمپرومتری و بررسیهای کرونوپتانسیومتری برای مطالعه مکانیزم های رسوبدهی استفاده شد. بررسی منحنی های ولتامتری نشان میدهند که رسوبدهی الکتروشیمیایی نانووایرها طلا در دانسیته جریانهای پایین بعلت حضور ترکیبات حاوی CN بر روی سطح و در دانسیته جریانهای بالا در اثر کاهش مستقیم Au(CN)2- به طلای فلزی صورت میگرد. با توجه به نمودارهای کرونوآمپرمتری مکانیزم جوانه زنی و رشد رسوبات از نوع لحظه ای سه بعدی بوده و رسوبدهی به طریقه دیفوزیونی کنترل میگردد. مقدار دانسیته جوانه های اولیه و مقدار ضریب دیفوزیون نیز محاسبه گردیده و مشاهده شد که ضریب دیفوزیون طلا با کاهش غلظت محلول کاهش یافته و دانسیته محلهای جوانه زنی با افزایش پتانسیل اضافی و کاهش غلظت محلول کاهش می یابد.مورفولوژی رسوبات نیز توسط میکروسکوپ SEM بررسی گردید.

کلیدواژه ها:

رسوبدهی الکتروشیمیایی ، نانوایر ، طلا ، مکانیزم