مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,353

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NCCEESLAMSHAR01_147

تاریخ نمایه سازی: 9 آبان 1388

چکیده مقاله:

لایه نشانی الکتروشیمیایی نسبت به روشهای لایه نشانی فیزیکی مزایایی از جمله عدم نیاز به سیستم خلا، دمای کاری پایین فرایند ( درحدود دمای محیط) ارزان قیمت بودن فرایند، و تولید فصل مشترک های تیز و اپیتاکسی برای ساخت لایه های نازک دارد در این راستا استفاده از روشهای مختلف الکتروشیمیایی از جمله ولتامتری سیکلی، کرونوآمپرمتری (منحنی مشخصه جریان - زمان) و کرونوپتانسیومتری (منحنی مشخصه پتانسیل - زمان ) برای مطالعه متغیرهای مختلف ترمودینامیکی و سینتیکی لایه نشانی مورد توجه قرا ردارد. با توجه به اهمیت لایه های نازک فرومغناطیسی، دراین تحقیق مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل برروی زیرلایه Si +n(111) از حمام سولفاتی ساده با استفاده از تکنیکهای الکتروشیمیایی ولتامتری سیکلی و کرونوآمپرمتری و مقایسه آن با تئوری شریفکز - هیلز مورد مطالعه قرار گرفته است نتایج آزمایش ولتامتری سیکلی در سرعتهای جاروب مختلف ازmV/s20 تا mV/s200 در غلظتهای متفاوت سولفات نیکل، جریان کاتدی از پتانسیل V0.7- شروع شده و پتانسیل احیای نیکل را در سرعت های جاروب مختلف محدوده و V1.3- تا V1.5- نشان میدهد بااستفاده از تکنیک کرونوآمپرمتری و رسم منحنی های بدون بعد مجذور نسبت جریان نشست به جریان پیک براساس تئوری شریفکز - هیلز، نحوه جوانه زنی به صورت آنی به اثبات می رسد. همچنین نحوه تغییرات مقدار جریان نشست نسبت به t1/2 خطی و نسبت به t3/2 غیرخطی است که تایید کننده مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل به صورت آنی می باشد.

کلیدواژه ها:

نیکل ، لایه نشانی الکتروشیمیایی ، جوانه زنی و رشد ، تئوری شریفکیز - هیلز.

نویسندگان

سیدمهدی جان جان

دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی مواد - نانو مواد دانشگاه صنعتی سهند تبری

فرزاد نصیرپوری

استادیار دانشکده مواد دانشگاه صنعتی سهند تبریز

میرقاسم حسینی

دانشیار دانشکده شیمی دانشگاه تبریز

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • M. Paunovic, M. Schelesinger; "Fundamentas of Elec trochemical Deposition", John ...
  • W. Shwarzacher, K. Attenborough, A. Michel, G. Nabiyouni, J. P. ...
  • N.Lebbad, J.Voiron, B.Nguyen, E.Chainet, "Thi Solid Films", 275 (73) (1998) ...
  • W. Schwarzacher, "Interface", Spring 2006, 32-36. ...
  • J.C. Ziegler, R.I. Wielgosz, D.M. Kolb, 6, Pb deposition on ...
  • W. Schwarzacher, "Kinetic roughening of elec trodeposited films", J. Phys.: ...
  • B. Scharifker, G. Hills, "Theoretical and experimental studies of multiple ...
  • نمایش کامل مراجع