مورفولوژی نانوساختار سیلیکان متخلخل و بررسی خواص الکتریکی آن درحضور گازهای N2 CO2

سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 895

فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NCNN01_068

تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1391

چکیده مقاله:

دراین کار نمونه هایی از ویفر سیلیکان نوع P به روش آنودی سازی الکتروشیمیایی درالکترولیت شامل DMF و اسید HF و همچنین اتانول C2H5OH) و اسید HF متخلخل گردید تاثیر پارامترهایی همچون زمان آندی سازی چگالی جریان و غلظت الکترولیت برساختار تخلخل بررسی شده و تصویر sEM سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار آورده شده است همچنین رفتار الکتریکی لایه های سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار درحضور گاز N2 بررسی شده و می توان از آن به عنوان حسگر گازی استفاده کردانرژی فعال سازی یک نمونه نانوساختار سیلیکان ماکرو متخلخل با یک نمونه نانوساختار سیلیکان مزومتخلخل با هم مقایسهشده است و به این نتیجه رسیدیم که انرژی فعال سازی نمونه ی نانوساختار سیلیکان ماکرو متخلخل بیشتر است دراین تحقیق نشان دادهشده که سیلیکان متخلخل نسبت به گاز CO2 درمقایسه با گاز N2 حساستر می باشد

نویسندگان

معصومه مقدسی

دانشگاه تربیت معلم تهران گروه فیزیک

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Bazrafkan and R.S. Dariani, "Electrical behavior of free-standing Porous Silicon ...
  • Z.M RIteresma, A. Splinter, A. Bodecheker, w.B enecke, Sens .Actuators, ...
  • S.Khoshnevis, R.S.Dariani, M .E.Azim-Araghi, Z.Bayindir and K.Robbie, " Observation of ...
  • Z.Fekih, F.Z.Otmani, N.Ghellai and N.E .Chabanne-Sari "ch aracterization of the ...
  • نمایش کامل مراجع