آنالیز فیلمهاینازک روتنیوم تولید شده به روش ALD برای کاربرد درنانوحافظه ها
محل انتشار: اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,420
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNN01_102
تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1391
چکیده مقاله:
چکیده فلز روتینوم جزو گروه فلزات نجیب می باشد این گروه از فلزات داشتن دمای ذوب بالا خاصیت سدی درمقابل نفوذ اکسیژن و تابع کاربالا فلزاتی ایده آل برای کاربرددرمدارهایم جتمع می باشند فرایندهای ALD برای روتنیوم برپایه واکنش پیش ماده فلز با اکسیژن درمحدوده دمایی 450-200درجه سانتی گراد مورد مطالعه قرارگرفته اندو نتایج زیرحاصل شده است فیلمهای روتنیوم فلزی با مقاومت ویژه پایین و محتوای ناخالصی اندک از یک چرخه pentadieny1 با پیش ماده RuCP2 رشدمی یابند درصورتیکه فیلمهای روتنیوم رشد یافته از β-diketonato با پیش ماده Ru(thd)3 مقاومت ویژه بالا محتوای ناخالصی بالا و زمان درنگی طولانی در شروع رشد فیلم دارند اکثر دستگاه های نانوالکترونیکی روی مدارهای مجتمع ساخته می شوند که مجموعه ای از قطعاتی مثل ترانزیستور خازن و مقاومت هستند دراین مقاله تاکید برمکانیسمهای واکنش و محدودیت ها جریان نشتی ،الکترودها و فصل مشترک آنها و تکنیکهای موثر لایه نشانی می باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سکینه شیرولیلو
دانشجوی کارشناسی ارشد فیزیک
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :