بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون
محل انتشار: اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,068
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNN01_382
تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1391
چکیده مقاله:
ابتدا لایه های نازک مولیبدن با استفاده از روش اسپاترینگ مغناطیسی DC برروی زیرلایه های سیلیکون و کوارتز به وسیله هدف مولیبدن با خلوص 99/9% تهیه گردید که ضخامت لایه تهیه شده درحدود 190/3 نانومتر اندازه گیری شد سپس لایه های مولیبدن را درداخل کوره بازپخت درمعرض گاز نیتروژن دردماهای 400 و 550 و 700 و 850 درجه سانتیگرادبا شیب حرارتی 5C/min نیترید کردیم آنالیزهای F.P.P AFM <XRD برروی نمونه ها صورت گرفت از آنالیز Xrd برای شناسایی فازها و جهت ترجیحی لایه ها استفاده گردید مورفولوژِ سطح لایه های نیترید مولیبدن نیز با استفاده ازآنالیز AFM بررسی و مشخص گردید که با افزایش دمای بازپخت لایه ها زبری سطح نیز افزایش می یابد مقاومت سطحی لایه ها نیز به وسیله F.P.P اندازه گیری و مشاهده شد که با افزایش دمای بازپخت مقاومت سطحی و مقاومت ویژه ی لایه های نازک نیترید مولیبدن کاهش می یابد که نشان دهنده رسانایی الکتریکی بهتر لایه ها می باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :