اثر لایه میانگیر آندی بر کارایی سلول فوتوولتاییک آلی با پیوند ناهمگون CuPc/C60
محل انتشار: سومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیرز ایران
سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 783
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE03_179
تاریخ نمایه سازی: 28 آذر 1392
چکیده مقاله:
در این پژوهش یک نمونه سلول فوتوولتاییک آلی دولایه ای بر پایه پیوند ناهمگون CuPc/C60 ساخته می شود. لایه پلیمری PEDOT:PSS و لایه نازک فلزی طلا به عنوان لایه میانگیر آندی در این نوع سلول ها استفاده می شود. اثر لایه میانگیر آندی بر مشخصه های اصلی سلول ها به ویژه جریان مدار کوتاه،ولتاژ مدار باز و بازده تبدیل توان مورد تجزیه و تحلیل قرار می گیرد.در نهایت نشان می دهیم که لایه میانگیر بسیار نازک فلزی طلا می تواند جایگزین مناسبی برای لایه پلیمری PEDOT:PSS در سلول های فوتوولتاییک آلی بر پایه پیوند ناهمگون CuPc/C60 باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محسن قاسمی ورنامخواستی
گروه فیزیک،دانشکده علوم، دانشگاه شهرکرد
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :