بررسی فیلم های نازک آهن پایه رشد داده شده به روش لایه نشانی لیزری

در این تحقیق فیلم های نازک آهن پایه باترکیب Fe78Si9B13 به کمک روش لایه نشانی لیزری رشد داده شدند هدف تحت خلاء پایین در معرض باریکه لیزر Nd:YAG قرار گرفته است. با استفاده از آنالیز پرتو ایکس از آمورف بودن فیلم اطمینان حاصل کرده ایم و آنالیز پس پراکندگی رادرفورد نیز به منظور اطلاع از ترکیب نمونه ها به کار رفته است. نتایج نشان داده است که ترکیب شیمیایی هدف عیناً به زیرلایه منتقل شده است. خواص مغناطیسی آن مانند چرخش کر مورد تحقیق قرار گرفته و همچنین وجود قطرک ها روی سطح فیلم بررسی شده و چگونگی تغییر آن با اعمال جریان و اندازه گیری ولتاژ هال مورد بررسی قرار گرفته است.