ساخت فتوکاتالیست3TiO2/Al2O با استفاده از روش Chemical Vapor Deposition(CVD)
محل انتشار: هشتمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران
سال انتشار: 1382
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,749
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NICEC08_213
تاریخ نمایه سازی: 8 اسفند 1386
چکیده مقاله:
روش CVD برای تهیه فتوکاتالیست دی اکسید تیتانیم بر روی پایه متخلخل آلومینا به کار برده شده است . از تیتانیم تترا ایزوپروپکسید(TTIP) به عنوان ماده اولیه استفاده شده است . TTIP ابتدا در درون حفره ها و منافذ آلومینا تحت خلاء نشانده شده و سپس تحت شرایط کنترل شده به دی اکسید تیتانیم تجزیه می گردد . نتایج نشان داده است که مقدار دی اکسید تیتانیم رسوب داده شده، تحت تاثیر پارامترهایی چون سرعت جریان ماده اولیه مورد استفاده در تهیه کاتالیست و روشهای رسوب دهی و تجزیه دارد . همچنین در ساختار فتوکاتالیست هتروژنی تولید شده بوسیلهCVD ساختار کریستالی آناتاز دیده می شود.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مهران رضایی
دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران
عباس طائب
دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران
نرگس حبیبی
دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :