تاثیر پارامتر های انباشت بر مورفولوژی لایه های نازک TIO2 تولید شده به روش کندو پاش

دی اکسید تیتانیم TiO2 بطور گسترده ای در لایه نشانی های اپتیکی استفاده می شود دراین مقاله تاثیر پارامترهای لایه نشانی برلایه های نازک TiO2 بدست آمده توسط انباشت کندوپاش مغناطیسی فرکانس رادیویی مورد مطالعه قرارگرفته است بدین منظور لایه های TiO2 در نرخهای مختلف ارگون نشست یافته اند میکروسکوپ نیروی اتمی غیرتماسی NC-AFMبرای بررسی سطح لایه ها استفاده شده است اطلاعات AFM نشان میدهد که مورفولوژی سطح و زبری به نرخ فلوی گاز ارگون و تعداد ذرات بمباران کننده بستگی دارد.

کلیدواژه ها:

دی اکسید تیتانیم ، کندوپاش مغناطیسی واکنشی ، میکروسکوپ نیروی اتمی