بررسی و محاسبه تیوری ولتاژ شکست حالت روشن در افزاره سیلیکون روی عایق با طول کانال 54 نانومتر

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 526

فایل این مقاله در 16 صفحه با فرمت PDF و WORD قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

TESCONF01_037

تاریخ نمایه سازی: 16 تیر 1397

چکیده مقاله:

شکست در افزاره های ماسفت سیلیکون روی عایق بر اثر جریان یونیزاسیون برخوردی الکترون ها در نزدیکی ترمینال درین ایجاد می شود که توسط ترانزیستور دو قطبی پارازیتی تقویت می شود. ولتاژ شکست پایین، یکی از مشکلات مهم در افزاره های کانال کوتاه می باشد. افزاره های ماسفت سیلیکون روی عایق، بر اثر پدیده بدنه شناور، در مقایسه با افزاره های ماسفت بدنه سیلیکون شکست متفاوتی دارند. در این مقاله مکانیسم شکست در افزاره های سیلیکون روی عایق بررسی شده و فرآیند شکست را مدل سازی کرده ایم و به طور مفصل به بررسی مکانیسم شکست حالت روشن و تاثیر مقاومت بدنه بر این مکانیسم در افزاره های سیلیکون روی عایق با طول کانال 45نانومتر پرداخته شده است، تاثیر مقدار مقاومت بدنه بر ولتاژ شکست حالت روشن، به صورت تیوری بررسی شده است.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

لیلا شکیبا

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه شهرکرد

آرش دقیقی

دانشیار گروه برق الکترونیک,دانشگاه شهرکرد , شهرکرد,ایران