فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف

سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 904

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

THINFILM01_038

تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1392

چکیده مقاله:

در این مقاله، یک مدل شاره ای دو بعدی برای شبیه سازی تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی (rf ) در یک راکتور PECVD به کار گرفته شده است. این نوع مدل سازی قادر است فرایند شکل گیری ذرات با ابعاد نانو را در محیط تخلیه الکتریکی راکتور تا رسوب سیلیکون آمورف بر روی یک زیر لایه و تشکیل لایه های نازک را توصیف نماید. در این کار، همچنین مهم ترین فرآیندهای معرفی شده شیمیایی در محیط پلاسما در نظر گرفته شده است. یعنی گونه های مختلف باردار و رادیکال ها، واکنش های گوناگون الکترون با ذرات خنثی و سایر واکنش های شیمیایی مد نظر است. در طول تخلیه الکتریکی رادیکال هایی تولید می شود که ابعاد نانو دارند. این رادیکال ها همان نانو ذرات هستند که روی زیرلایه ها رسوب می کنند و لایه های نازک تولید می شود. در واقع در این مقاله ما، واکنش های شیمیایی انجام شده در راکتور را بررسی کرده و معادلات حاکم بر ذرات و محیط راکتور را جمع آوری کرده ایم. این معادلات شامل معادلاتعادل چگالی و شار برای گونه های مختلف، معادله ی پواسون برای پتانسیل و معادله ی انرژی الکترون می باشد.

کلیدواژه ها:

پلاسمای تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی ، راکتور PECVD ، لایه های نازک سیلیکون آمورف

نویسندگان

زهرا دهقانی فرد

دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان

علیرضا اشرف گنجویی

مرکز بین المللی علوم و تکنولوژی پیشرفته و علوم محیطی

محمد آقا بلوریزاده

دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان

علیرضا احمدی

دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • G. J. Nienhuisa and W. J. Goedheer, _ A self-consistent ...
  • and N;", IOP Publishing Ltd, 2003. ...
  • K. De Bleecker1, A. Bogaerts1, W.J. Goedheer2, R. Gijbels1, _ ...
  • Ch. Hollenstein, J-L Dorier, J Dutta, L Sansonnens and A. ...
  • V.V. Krzh izhanovskaya, M. A. Zatevakhin, A. A. Ignatiev, Y. ...
  • P. Dvorak, P. Vasina, V. Bursnkova and R. Z. emlicka, ...
  • H. Huanga, K. J. Winchester b, A. Suvorova c, B. ...
  • Y. Larionova, N. P. Harder, R. Brendel, _ Effect Of ...
  • نمایش کامل مراجع