لیلا قلم چی - دانشجو، دانشگاه زنجان
محمدحسین رسولی فرد - استادیار گروه شیمی دانشگاه زنجان

درمطالعه حاضر به بررسی تخریب ماده آلی سفیکسیم تری هیدرات CEF)) از پساب صنایع داروسازی به روش اکسایش پیشرفته درحضور پروکسی دی سولفات ( ) ونانوذرات نقره تثبیت شده بر پایه سیلیکا پرداخته شده است. مجموعه متغیر های موثر بر میزان حذف شامل غلظت CEF))٬ غلظت ( )٬ مقدار نانونقره٬pH و دما بررسی شده است. نقش کاتالیستی نقره به عنوان منبع تحریک کننده ( ) موجب تولید رادیکال های فعال (SO4−•) می شود که به عنوان یک اکسنده قوی تراز( ) باعث افزایش اکسایش آلاینده و تخریب آن می گردد همچنین تغییرات طیف جذبی محلول آنتی بیوتیک در طول موج ماکسیمم 285 نانومتر به شدت کاهش می یابد که دلالت بر تخریب آنتی بیوتیک در مدت زمان 90دقیقه می باشد. نتایج کار حاضر بیانگر کارایی بالای فرآیند اکسایش پیشرفته در تصفیه پساب های صنایع دارویی می باشد

سفیکسیم٬ فرآینداکسایش پیشرفته٬ تصفیه پساب٬ نانونقره٬ پروکسی دی سولفات