مجید جعفریان - دپارتمان الکتروشیمی دانشگاه صنعتی خواجه نصیرطوسی تهران
محمدقاسم مهجانی - دپارتمان الکتروشیمی دانشگاه صنعتی خواجه نصیرطوسی تهران
ابراهیم ضیایی - دپارتمان الکتروشیمی دانشگاه صنعتی خواجه نصیرطوسی تهران

در سال 1912 دانشمندان دریافتند که Al در محلولهای نمکی خورده می شود و این خوردگی معمولا با افزایش ناخالصیهای موجود در Al افزایش می یابد. ثابت شده است که شدیدترین حالات خوردگی Al و آلیاژهای آن در رابطه با محیط های حاوی یون های هالوژنی است. یون هالیدمعمولا سبب می شود که فیلم روئین روی سطح فلز به طور موضعی شکسته شده و از اینرو باعث انحلال موضعی فلز در جایگاه های شکستگی لخت سطح فلز میشود و این امر منجر به رشد حفره میگردد. مقاومت Al وآلیاژهای آن در برابر خوردگی در محیط های بستگی به تشکیل سریع فیلم اکسید سطحی نسبت داده می شود و محافظت Al در برابر خوردگی در محیط های آبی به تشکیل سریع فیلم اکسید سطحی نسبت داده می شود و محافظت Al در برابر خوردگی در این محیط بستگی به پایداری فیلم اکسید سطحی دارد.