مریم احتشام زاده - دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
تقی شهرابی فراهانی - دانشیار بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
میرقاسم حسینی - استادیار دانشکده شیمی، دانشگاه تبریز

از دو شیف باز متقارن سنتز شدة جدید، جهت کاهش سرعت خوردگی مس در سولفوریک اسید ٠,٥ مولار استفاده شد و رفتار الکتروشیمیائی مس در حضور فیلم های خودمجموعه ساز این شیف بازها به کمک روشهای پلاریزاسیون تافل و امپدانس Ac مورد بررسی قرار گرفت . نتایج نشان دادند که بازدارنده های مورد آزمایش از نوع مختلط بوده و با جذب شدن بر روی مکانهای سطح، واکنش کاتدی و واکنش آندی را مختل می سازند . هر دو شیف باز استعداد بازدارندگی ً نسبتا خوبی در محیط اسیدی مذکور دارا می باشند که با افزایش غلظت، مقاومت پلاریزاسیون و در نتیجه راندمان بازدارندگی نیز افزایش می یابد و راندمان بازدارندگی شیف باز S2 بیش از S1 بود . در غلظتهای پایین که امکان استفاده از بازدارنده ها از لحاظ اقتصادی توجیه پذیرتر می باشد راندمان آنها پایین می باشد . لذا، راندمان بازدارندگی شیف بازها در حضور پروپان تیول و١ - دودکان تیول ارزیابی شد و مشاهده شد که آلکان تیولها با ایجاد اثر تزاید تقویتی قادر به بهبود خواص حفاظتی فیلمهای خودمجموعه ساز شیف بازها روی سطح الکترود مس می باشند

خوردگی؛ اسیدشوئی؛ شیف باز؛ مس؛ امپدانس Ac ؛ فیلم های خودمجموعه ساز