محمد الماسی کاشی - پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
عبدالعلی رمضانی - پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
مونس رحماندوست - پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران

با روش آندایز توسط مخلوط اسید سولفوریک - اکسالیک، در ولتاژ بین 25 تا 40 ولت، می توان آرایه ای منظم از نانوحفره ها داشت . در هر ولتاژو pH ثابت از دو نوع الکترولیت با غلظت اسید سولفوریک متفاوت استفاده شده و تاثیر آن بر آرایش و نظم حفره ها با تبدیل فوریه از تصاویر AFM و SEM ، بررسی شده است . نتایج نشان می دهد که در ترکیب دارای غلظت بالاتر اسید سولفوریک، نظم بلند برد و در غلظت کمتر آرایش زیباتر حفره ها چشمگیر است . فاصله بین حفره ای در ترکیب مخلوط اسید سولفوریک - اکسالیک در غلظت کمتر ، بیشتر و تقریبا برابر nmV -1 2.6 و nmV -1 2.5 برای غلظت بالاتر است . چگالی سطحی حفره ها در 40 ولت با الکترولیت اکسالیک و در 25 ولت با سولفوریک حدود % 10 است در حالیکه برای ترکیب این دو اسید، این مقدار تا حدود % 50 در ولتاژ 37.5 افزایش می یابد .

آلومینا، آ ندایز، مخلوط اسید اکسالیک - سولفوریک، .pH