شهرام دانش پژوه - بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان
امیر صرافی - بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان
علیرضا محبی - بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان

فرآیندهای انحلال و ترسیب در پالایش الکتر ولیتی مس، بطور گسترد های از ضریب نفوذ یونهای مس تأثیر م یپذیرند. در این تحقیق از یکی از تکنیکهای الکتروشیمیایی دینامیکی به نام(LSV) Linear Sweep Voltametry به منظور اندازه گیری ضریب نفوذ(Diffusion Coefficient) یون Cu++ در لایه نرنست مجاور سطح کاتد استفاده شده است. سپس تاثیر تغییرات غلظت یون مس و غلظت گلو(Glue) بر روی ضریب نفوذ Cu++ در الکترولی ت صنعتی شبیه سازی شده مشابه واحد پالایش الکترولیتی مس مجتمع مس سرچشمه، مورد ارزیابی و تحقیق قرار گرفته است. تغییرات غلظ ت مس و گلو در٠ میلی گرم بر لیتر - این تحقیق به ترتیب ٦٠ ٠ گرم بر لیتر و ١٠٠(ppm) در نظر گرفته شد ه است . افزایش غلظت مس در الکترولیت سولفات مس اسیدی ب ه مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را افزایش داده و افزایش غلظت گلو مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را کاهش می دهد.

ضریب نفوذ مس گلو کاتد