حمیدرضا دهقانپور - گروه فیزیک دانشگاه تفرش
پرویز پروین - دانشکده مهندسی هسته ای و فیزیک دانشگاه صنعتی امیرکبیر

چنانچه تپ های متعدد لیزر اگزایمر ArF پس از کانونی شدن از میان محیط گازی SF6 عبور کرده و برسطح سیلیکون فرود ایند شاهد شکست مولکولهای SF6 هستیم که به علت متفاوت بودن انرژی فوتونهای تشکیل دهنده پرتولیزر با اختلاف ترازهای انرژی مولکولهای SF6 انتظار می رود این شکست مولکولی براثر برخورد ذرات کنده شده از سطح سیلیکون توسط لیزر با مولکولهای گاز روی داده باشد در ادامه این فرایند یونهای فلورین دار در سطح سیلیکون نفوذ کرده و با سطح واکنش شیمیایی می نمایند. دراین مقاله میزان نفوذ این یونها در سطح سیلیکون د رفشارهای چند صد میلی بار و کمتر از یک میلی بار مقایسه شده و نتایج موردبررسی قرارگرفته اند.

شکست مولکولی، نفوذ سطحی فلوری، لیزراگزایمر ArF، فشار گاز SF6، شیشه