CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

سنتز غشای سیلیس خالص Si-CHA به روش تبلور درجا و بررسی خواص و توده‌ای آن در جداسازی گازهای اسیدی (CO2 H2S) از گاز طبیعی (CH4)

عنوان مقاله: سنتز غشای سیلیس خالص Si-CHA به روش تبلور درجا و بررسی خواص و توده‌ای آن در جداسازی گازهای اسیدی (CO2 H2S) از گاز طبیعی (CH4)
شناسه ملی مقاله: CAAT03_154
منتشر شده در سومین همایش ملی کاربردهای شیمی در فناوریهای نوین در سال 1392
مشخصات نویسندگان مقاله:

حامد مقصودی - دانشکده مهندسی شیمی و نه - دانشگاه صنعتی شریف
محمد سلطانیه - دانشکده مهندسی شیمی و نفت - دانشگاه صنعتی شریف
سهیل سمیعی - دانشگاه آزاد اسلامی واحد داراب - گروه مهندسی صنایع پلیمر

خلاصه مقاله:
در مقاله غشای سیلیس خالصی Si-CHA و اولین بار در دنیا با روش تبلور درجا سنتز و خواص عبور دهی آن در جداسازی H2S ! CO2 از CH4 مورد بررسی قرار گرفته است. بررسی خواص عبوردهی نشا مذکور نشان داد که می‌تواند برای جداسازی CO2 و H2S از CH4 مورد استفاده قرار گیرد. این اولین غشایی زئولیت در دنیاست که برای جداسازی H2S از CH4 مورد استفاده قرار گرفته است و توانایی جدا ز آن‌ها را دارد. به طوری که انتخاب پذیری CO2/CH4 ! H2S/CH4 نشا مذکور در دمایی پنج درجه سانتی‌گراد و اختلاف فشار چهار بار برای مخلوط 0/3% ، CO2: و 97/57 % : CH4 به طرد برابر 3/24 و 5/3 می‌باشد.

کلمات کلیدی:
غشای زئولیتی، سلیس خالص Si-CHA ، جداسازی گاز، شیرین سازی گاز طبیعی، تبلور در جا

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/233330/