مهدی خدایی - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان
احسان قاسمعلی - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان
سامان سالمی زاده - دانشجوی کارشناسی ارشد گروه مهندسی مواد و متالورژی، دانشکده فنی، دانش
احمد کرمانپور - عضو هیات علمی، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان

پوشش های فتوکاتالیست در معرض نور با انرژی بالا، توانایی حذف ترکیبات سمی آلی از محیطهای گازی و آبی را دارا می باشند. از میان مواد فتوکاتالیست مختلف، دی اکسید تیتانیم(تیتانیا) به دلایلی نظیر فعالیت فتوکاتالیستی بالا، پایداری شیمیایی بالا و قیمت نسبتا پایین، از کاربرد بیشتری برخوردار است. در این تحقیق پوشش نانو ساختار تیتانیائی از طریق فرایند سل – ژل و به روش پوشش دهی غوطه وری بر روی زیر لایه های شیشه ایجاد شد. در این روش امکان ایجاد پوشش هایی با تخلخل های نانومتری برای بهبود فعالیت فتوکاتالیستی وجود دارد. از میان فازهای مختلف تیتانیا، اناتاز دارای بشتری خاصیت فتوکاتالیستی می باشد که می توان بوسیله عملیات حرارتی مناسب بدان دست یافت. در کار حاضر عملیات حرارتی پوششهای حاصله در محدوده دمائی 400 تا 600 درجه سانتیگراد انجام شده و چگونگی استحاله فازی با آنالیز حرارتی افتراقی (DTA) و نوع فازهای تشکیل شده توسط آزمون پراش پرتو ایکس (XRD) مورد ارزیابی قرار گرفت. نهایتا شرایط مناسب برای سنتز پوشش های فتوکاتالیستی آناتاز ارائه شده است.

تیتانیا ، فتوکاتالیست ، سل - ژل ، آناتاز ، عملیات حرارتی