CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

افزایش ولتاژ شکست و کاهش مقاومت حالت روشن ترانزیستور SOI-LDMOS با استفاده از یک لایه فلز در لایه ی اکسید مدفون

عنوان مقاله: افزایش ولتاژ شکست و کاهش مقاومت حالت روشن ترانزیستور SOI-LDMOS با استفاده از یک لایه فلز در لایه ی اکسید مدفون
شناسه ملی مقاله: CBCONF01_0691
منتشر شده در اولین کنفرانس بین المللی دستاوردهای نوین پژوهشی در مهندسی برق و کامپیوتر در سال 1395
مشخصات نویسندگان مقاله:

حجت الله منصوری - کارشناس ارشد، دانشکده مهندسی برق و کامپیوتردانشگاه سمنان.
علی اصغر اروجی - استاد، دانشکده مهندسی برق و کامپیوتردانشگاه سمنان

خلاصه مقاله:
در این مقاله به منظور افزایش کارایی ترانزیستورهای ماسفت با نفوذ دوگانه ی افقی، ساختار جدیدی برای ادواتساخته شده با استفاده از تکنولوژی سیلیسیم روی عایق ارائه شده که در آن یک ناحیه ی فلزی در لایه ی اکسید مدفونقرار گرفته است. استفاده از لایه ی فلز در ساختار پیشنهادی موجب توزیع یکنواخت تر میدان الکتریکی در ناحیه ی رانشیشده و ولتاژ شکست افزایش می یابد. در کنار افزایش ولتاژ شکست، مقاومت حالت روشن افزاره نیز به دلیل افزایش غلظتناخالصی در ناحیه ی رانشی کاهش می یابد. نتایج شبیه سازی های انجام شده برای ساختار پیشنهاد شده بهبود قابل توجهیرا در مقاومت حالت روشن و ولتاژ شکست نسبت به ساختار متداول نشان می دهد.

کلمات کلیدی:
ترانزیستور ماسفت، سیلیسیم روی عایق، لایهی فلز مدفون، مقاومت حالت روشن، ولتاژ شکست

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/497146/