رفتار خوردگی لایه نازک آلیاژ حافظه دار NiTi در محلول رینگر
عنوان مقاله: رفتار خوردگی لایه نازک آلیاژ حافظه دار NiTi در محلول رینگر
شناسه ملی مقاله: SCMEMI07_009
منتشر شده در هفتمین همایش علمی دانشجویی مهندسی مواد و متالورژی ایران در سال 1386
شناسه ملی مقاله: SCMEMI07_009
منتشر شده در هفتمین همایش علمی دانشجویی مهندسی مواد و متالورژی ایران در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:
احسان صائب نوری - دانشجوی دکترای مهندسی مواد - خوردگی و حفاظت
محمدتقی شهرابی فراهانی - دانشیار دانشگاه تربیت مدرس، گروه خوردگی سهراب سنجابی، استادیار دانشگ
خلاصه مقاله:
احسان صائب نوری - دانشجوی دکترای مهندسی مواد - خوردگی و حفاظت
محمدتقی شهرابی فراهانی - دانشیار دانشگاه تربیت مدرس، گروه خوردگی سهراب سنجابی، استادیار دانشگ
آلیاژ حافظه دار NiTi دارای خصوصیات منحصر به فردی نسبت به آلیاژهای دیگر چون حافظه داری و سوپرالاستیسیته می باشد که باعث کاربرد زیاد این آلیاژ در علم مهندسی پزشکی برای تولید ابزارها، استنتها، کاشتنی ها و سیمهای ارتودنسی و ک اربرد ویژه آنها در سیستمهای میکرو الکترومکانیکی در کاربردهای بیولوژیکی (BioMEMS) می باشد.هدف از انجام این تحقیق به دست آوردن رفتار خوردگی آلیاژ حافظه دا ر نایتینول که به صورت لایه نازک تهیه شده است، می باشد . برای این منظور به روش پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی سیکلی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محلول محلول رینگر به عنوان یک محلول شبیه سازی شده بدن تستهای الکتروشیمیایی انجام شد . نتایج آزمایش ها نشان می دهد که نمونه های لایه نازک با گذشت زمان با تشکیل فیلم اکسیدی تا چندین برابر نرخ خوردگی را کاهش می دهند . همچنین خوردگی حفره دار شدن تا پتانسیلهای بالا نیز مشاهده نشد که نشانگر مقاومت بالای آن نسبت به خوردگی موضعی می باشد.
کلمات کلیدی: نایتینول، پلاریزاسیو ن سیکلی، خوردگی، محلول شبیه سازی شده بدن ،فیلم اکسیدی، طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/51141/