مطالعه ویژگی های فیزیکی لایه های نازک ZnO بر روی زیر لایه های شیشه ، منو و مولتی بلور سیلیکیون
عنوان مقاله: مطالعه ویژگی های فیزیکی لایه های نازک ZnO بر روی زیر لایه های شیشه ، منو و مولتی بلور سیلیکیون
شناسه ملی مقاله: ICOPTICP15_080
منتشر شده در پانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران در سال 1387
شناسه ملی مقاله: ICOPTICP15_080
منتشر شده در پانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران در سال 1387
مشخصات نویسندگان مقاله:
شیدا باقر زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
نگین معنوی زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
محمد هادی ملکی - پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای ، پژوهشکده لیزر و اپتیک
خلاصه مقاله:
شیدا باقر زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
نگین معنوی زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
محمد هادی ملکی - پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای ، پژوهشکده لیزر و اپتیک
هدف از این پژوهش بررسی ویژگی های فیزیکی و ساختاری لایه های نازک ZnO بر روی زیر لایه های مختلف می باشد به این منظور لایه های اکسید روی در شرایط مشابه بر روی زیر لایه های شیشه . منوکریستال سیلیکون (100) نوع O مولتی کریستال سیلیکون لایه نشانی و سپس در دمای C 400 در کوره خلاء تحت عملیات گرمادهی قرار گرفته اند ویژگی های اپتیکی . ساختار بلوری و ساختار سطحی این لایه ها با کمک آنالیز های طیف UV/VIS/IR و XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفته است
کلمات کلیدی: اکسید روی ( ZnO ) ، منو و بلور سیلیکون ، مولتی بلور سیلیکون ، ویژگی های بلوری و سطحی ،
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/65014/