عبدالعلی ذوالانواری - گروه فیزیک دانشگاه اراک
رضا مهردار قائم مقامی - گروه فیزیک دانشگاه اراک

دراین الگو نیروی جاذبه بین سوزن میکروسکوپ نیرو اتمی و سطح را برای لایه ی نازکی از جنس Ta2O5 _ SiO2 و ترکیبات مشابه که روی زیر لایه Si نوع N قرار دارد با اعمال ولتاژ بایاس ثابت محاسبه شده است بر هم کنش غالب بین سوزن و سطح نیروی واندروالس بوده ولی هنگامی که ولتاژ بایاس مناسبی به سیستم وارد میشود نیروی جاذبه افزایش یافته که ناشی از بر هم کنش کلونی است نتایج بدست آمده حاکی از خاصیت ضعیف تر دب الکتریکی Ta2O5 نسبت به Sio2 بر خلاف انتظرات تئوری است.