سارا فضلی - کارشناسی بخش مهندسی مواد و متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
فاطمه بقایی راوری - عضو هیات علمی بخش مهندسی مواد و متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

دراین تحقیق میزان بازدارندگی یک شیف بازجدید بر روی مس و بهبود راندمان آن با بنزوتری آزول دراسید سولفوریک نیم مولار در دمای298 کلوین و با استفاده از روش های الکتروشیمیایی (پتانسیودینامیک و AC امپدانس) بدست آورده شد. نتایج نشان دادند که اضافه شدنشیف باز به اسید سولفوریک نیم مولار باعث کاهش جریان خوردگی مس شده است و افزایش غلظت شیف باز، باعث افزایش در صد بازدارندگیآن می شود. با اضافه کردن 10ppm بنزوتری آزول به شیف باز باعث افزایش بیشتردرصد بازدارندگی، نسبت به شیف باز تنها، شده است. نتایجمنحنی های نایکوئیست (AC امپدانس) نشان می دهدکه اضافه شدن شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار وکاهش ظرفیت لایه دوگانه ((C(dl)شده است و اضافه کردن بنزوتری آزول، باعث افزایش راندمان بازدارندگی شیف باز شده است. به علاوه، جذب این شیف باز به تنهایی و بااضافه کردن بنزوتری آزول به آن بر سطح مس، از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.

ممانعت کنندگی، مس، بنزوتری آزول