اثرمحلول پاشی سولفات روی و نانواکسید روی بر رشد و واکنش هیل درگیاه کلزا تحت تنش شوری
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 380
نسخه کامل این مقاله ارائه نشده است و در دسترس نمی باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
این مقاله در بخشهای موضوعی زیر دسته بندی شده است:
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
BIOCONF19_612
تاریخ نمایه سازی: 22 دی 1396
چکیده مقاله:
دراین مطالعه گیاه کلزا به مدت 12 روز تحت تنش شوری در سه سطح 0، 50، 100 میکرومولارکلریدسدیم و سولفات روی و نانو اکسید روی در پنج سطح 0، 0/5، 2/5، 10/5 میکرومولار به صورت محلول پاشی قرار گرفتند. نتایج نشان داد که شوری باعث کاهش ارتفاع گیاه، طول ریشه، تعدادبرگ، سطح برگ، وزن تر و خشک ریشه و اندام هوایی، کاهش کلروفیل b,a کلروفیل کل و واکنش هیل شد. محلول پاشی کلزا با نانوذره اکسید روی درغلظت 2/5 میکرومولار منجر به افزایش در این پارامترها نسبت به شاهد شد. در تیمارهای توام، افزایش در تحمل به شوری در غلظت 2/5 میکرومولار نانواکسید روی مشاهده شد. غلظت 5 میکرومولارسولفات روی به تنهایی اثرات مثبتی روی رنگیزه های فتوسنتزی داشت ولی روی سطوح شوری تاثیر معنی داری نداشت. با افزایش غلظت سولفات روی و شوری از سرعت واکنش هیل کاسته شد. میتوان نتیجه گرفت غلظت 2/5 نانو اکسید روی نسبت به سولفات روی در بهبود تحمل به شوری نقش موثری داشت
کلیدواژه ها:
نویسندگان
طرفه اخوان هزاوه
گروه زیست شناسی دانشکده علوم، دانشگاه ارومیه
لطیفه پوراکبر
گروه زیست شناسی دانشکده علوم، دانشگاه ارومیه