اثرمحلول پاشی سولفات روی و نانواکسید روی بر رشد و واکنش هیل درگیاه کلزا تحت تنش شوری

سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 380

نسخه کامل این مقاله ارائه نشده است و در دسترس نمی باشد

این مقاله در بخشهای موضوعی زیر دسته بندی شده است:

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

BIOCONF19_612

تاریخ نمایه سازی: 22 دی 1396

چکیده مقاله:

دراین مطالعه گیاه کلزا به مدت 12 روز تحت تنش شوری در سه سطح 0، 50، 100 میکرومولارکلریدسدیم و سولفات روی و نانو اکسید روی در پنج سطح 0، 0/5، 2/5، 10/5 میکرومولار به صورت محلول پاشی قرار گرفتند. نتایج نشان داد که شوری باعث کاهش ارتفاع گیاه، طول ریشه، تعدادبرگ، سطح برگ، وزن تر و خشک ریشه و اندام هوایی، کاهش کلروفیل b,a کلروفیل کل و واکنش هیل شد. محلول پاشی کلزا با نانوذره اکسید روی درغلظت 2/5 میکرومولار منجر به افزایش در این پارامترها نسبت به شاهد شد. در تیمارهای توام، افزایش در تحمل به شوری در غلظت 2/5 میکرومولار نانواکسید روی مشاهده شد. غلظت 5 میکرومولارسولفات روی به تنهایی اثرات مثبتی روی رنگیزه های فتوسنتزی داشت ولی روی سطوح شوری تاثیر معنی داری نداشت. با افزایش غلظت سولفات روی و شوری از سرعت واکنش هیل کاسته شد. میتوان نتیجه گرفت غلظت 2/5 نانو اکسید روی نسبت به سولفات روی در بهبود تحمل به شوری نقش موثری داشت

نویسندگان

طرفه اخوان هزاوه

گروه زیست شناسی دانشکده علوم، دانشگاه ارومیه

لطیفه پوراکبر

گروه زیست شناسی دانشکده علوم، دانشگاه ارومیه