تاثیر نانوسیلور در کنترل آلودگی باکتریایی ریزنمونه های پایه رویشی پسته یوسیبی- 1 (Pistacia atlantica × P. integrima)

پایه رویشی یوسیبی- 1 به دلیل داشتن مزایایی چون رشد رویشی زیاد و عملکرد بالا، یکی از پایه های مهم تجاری در دنیا می باشد.تکثیر این پایه یا از طریق بذر و یا رویشی (کشت بافت) می باشد ولی آلودگی درونی باکتریایی از عوامل محدودکننده تکثیر این پایهمحسوب می شود. در این پژوهش به منظور کاهش میزان آلودگی باکتریایی، آزمایشی در قالب طرح کامل تصادفی با آرایش فاکتوریلاجرا گردید که طی آن ریزنمونه ها درون غلظت های مختلف (0 ، 50 ، 100 ، 150 و 200 میلیگرم درلیتر) نانوسیلور در سه زمان (3 ، 5 و7 دقیقه) غوطه ور شدند. در نهایت نتایج حاکی از آن بود که با افزایش غلظت و مدت زمان غوطه وری ریزنمونه ها درون محلولنانوسیلور میزان آلودگی درونی باکتریایی کاهش یافت به طوری که کمترین میزان آلودگی (8 درصد) در بالاترین غلظت و بیشترینمدت زمان زمان غوطهوری مشاهده گردید. آنچه که مشخص بود افزایش غلظت و زمان تاثیرات سوئی بر باززایی و سوختگی جوانه هانیز داشت و در نهایت استفاده از غلظت 150 میلیگرم برلیتر نانوسیلور به مدت 7 دقیقه بهترین نتایج را نشان داد که منجر به بالاتریندرصد استقرار (72 درصد) گردید.

کلیدواژه ها:

پایه رویشی پسته یوسی بی- 1 ، آلودگی باکتریایی ، نانوسیلور ، استقرار ، کشت درون شیشه ای