مطالعه کلیدزنی دو پایا با آستانه پایین در بلور فوتونی یک بعدی غیر خطی
محل انتشار: هشتمین همایش مهندسی برق مجلسی
سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 444
فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCEEM08_024
تاریخ نمایه سازی: 7 آبان 1398
چکیده مقاله:
در این مقاله با استفاده از روش FDTD غیرخطی رفتار دوپایای نوری در بلور فوتونی یک بعدی بررسی شده است. در بلور فوتونی یک بعدی از اثر غیرخطی کر در مادهای با ضریب شکست nD=1.4 و ضریب شکست کر غیر خطی χ(3)=0.00001(ε0/µ0) استفاده شده است. شبیه سازی بلور فوتونی در دو فرکانس ωin=ω0 و ωin=0.8235ω0 تا شدت میدان الکتریکی 120 kV/m انجام شده است. همانطور که در شبیه سازی های انجام شده مشاهده گردید در حالت غیر خطی با فرکانس ورودی 0w ، پالس مثلثی ورودی به ساختار در لایه خرابی محدودمی شود ، ولی با تغییر فرکانس پالس ورودی از 0w به w0 0.8235 پالس ورودی وارد لایه خرابی نمی گردد یاضریب نفوذ آن بسیار پایین است. این تغییر فرکانس معادل با تغییر 0/039 در ضریب شکست لایه خرابی، nD ، است. از این خاصیت میتوان به عنوان سوییچ دوپایا استفاده کرد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
پریسا کرمی
گروه مهندسی برق-الکترونیک، پردیس علوم و تحقیقات دماوند، واحد دماوند، دانشگاه آزاد اسلامی، دماوند، ایران
حجت اله خواجه صالحانی
گروه مهندسی برق-الکترونیک، پردیس علوم و تحقیقات دماوند، واحد دماوند، دانشگاه آزاد اسلامی، دماوند، ایران