CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

بررسی اثر فاصله سیم ملتهب تا زیر لایه سیلیکون در فرآیند تولید فیلم نازیک کربن الماس گونه

اعتبار موردنیاز PDF: ۰ | تعداد صفحات: ۴ | تعداد نمایش خلاصه: ۳۴۴ | نظرات: ۰
سال انتشار: ۱۳۹۳
کد COI مقاله: BLUR01_005
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۱.۵۹ مگابات
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

متن کامل این مقاله منتشر نشده و درپایگاه سیویلیکا موجود نمی باشد.

منبع مقالات سیویلیکا دبیرخانه کنفرانسها و مجلات می باشد. برخی از دبیرخانه ها اقدام به انتشار اصل مقاله نمی نمایند. به منظور تکمیل بانک مقالات موجود، چکیده این مقالات در سایت درج می شوند ولی به دلیل عدم انتشار اصل مقاله، امکان ارائه آن وجود ندارد.

خرید و دانلود فایل PDF مقاله

متن کامل (فول تکست) این مقاله منتشر نشده و یا در سایت موجود نیست و امکان خرید آن فراهم نمی باشد

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی اثر فاصله سیم ملتهب تا زیر لایه سیلیکون در فرآیند تولید فیلم نازیک کربن الماس گونه

  حمید مطهری - گروه فیزیک اتمی و مولکولی، بخش فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه تربیت مدرس
  رسول ملک فر - گروه فیزیک اتمی و مولکولی، بخش فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه تربیت مدرس
  فاطمه صحراییان - گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران شمال، دربند، تهران
    احمد بهرامی - گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، تهران

چکیده مقاله:

در این مقاله قطعه ای سیلیکونی به عنوان زیر لایه انتخاب شد. سپس این قطعه در فاصله ای از سیم ملتهب قرار گرفت که کمترین فاصله 0/5 سانتیمتر و بیشترین فاصله در حدود 1/58 سانتیمتر است. سپس لایه نشانی کربن الماس گونه به روش ملتهب صورت گرفت. پس از تولید لایه فیلم نازک بر روی قطعه، شکل های گل مانند برجسته ای در ساختار فیلم ظاهر شد. با بررسی این گل های افتابگردانی شکل به کمک بررسی طیف سنجی پراکندگی میکرو رامان و عکس های SEM مشخص شد که پیدایش الگوهای گل مانند ناشی از اثر تنش در لایه های کربن الماس گونه بوده اند. میزان این تنش به شدت به فاصله سیم ملتهب تا زیر لایه سیلیکونی وابسته بوده است.

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-BLUR01-BLUR01_005.html
کد COI مقاله: BLUR01_005

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
مطهری, حمید؛ رسول ملک فر؛ فاطمه صحراییان و احمد بهرامی، ۱۳۹۳، بررسی اثر فاصله سیم ملتهب تا زیر لایه سیلیکون در فرآیند تولید فیلم نازیک کربن الماس گونه، اولین کنفرانس رشد بلور ایران، سمنان، انجمن فیزیک ایران، دانشگاه سمنان، https://www.civilica.com/Paper-BLUR01-BLUR01_005.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (مطهری, حمید؛ رسول ملک فر؛ فاطمه صحراییان و احمد بهرامی، ۱۳۹۳)
برای بار دوم به بعد: (مطهری؛ ملک فر؛ صحراییان و بهرامی، ۱۳۹۳)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • amorphous carbon "; Materials Diamond-likeء [1] J. Robertson; _ : ...
  • S. Ravi P. Silva: "Properties of amorphous carbon"; Inspec Publication. ...
  • _ [3] A. Grill; :Electrical and optical properties of diamond-like ...
  • M. Pandey et al; :Structural and properics of dianond like ...
  • M. Maharizi et al; -Physical properies of a: DLC films ...
  • K. L. Cloy; -Chermical vapor deposition of coatings :; Progress ...
  • Jean-Marc Bonard; :Carbon nanostructures by Hot Filament properties, ...
  • applications"; Thin Solid Filmt 5u1, (2006) 8-14. ...
  • Jacob Filik: :Raman spectrscopy: _ simple, non-destruct ve way _ ...
  • Charoendee Pingsuthi wong;"Invest igation of the structure and properties of ...
  • علم سنجی و رتبه بندی مقاله

    مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
    نوع مرکز: دانشگاه دولتی
    تعداد مقالات: ۲۱۵۹۱
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات مرتبط جدید

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.