بررسی ممانعت کنندگی دو شیف باز جدید بر روی مس در اید سولفوریک نیم مولار
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,639
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CIMS11_058
تاریخ نمایه سازی: 24 اردیبهشت 1387
چکیده مقاله:
مطالعه ازدارندگی دو شیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل) انجام شده است. نتایج بدست آمده از منحنی های نایکوئیست نشان می دهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه و در نتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار شده است. این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می بشند و به صورت جذب شیمیایی بر روی سطح مس مانع از خوردگی آن می شوند و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
فاطمه بقایی راوری
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان